Заживление on UV Light Zone

Лампа для УФ отверждения в промышленной автоматизации

Fri, 24 Jul 2026 15:13:03 +0800

Как заставить лампы ультрафиолетового отверждения эффективно работать на вашем производственном оборудовании
Можно считать лампы ультрафиолетового отверждения «сердцем» процесса нанесения покрытий и соединения деталей. При использовании высокоскоростного автоматического оборудования цель проста: превратить жидкий полимер в твердую массу за считанные секунды.

Мы спроектировали наши самые популярные лампы так, чтобы они можно было без проблем заменить на старые. Это значит, что вам не нужно разбирать конструкцию конвейера или тратить время на его реконструкцию лишь ради замены лампы.

Стандартная лампа для УФ отверждения на ртутной основе

Fri, 24 Jul 2026 15:06:28 +0800

Давайте поговорим о лампах с ультрафиолетовым излучением на основе ртути
Если вы занимаетесь печатью или нанесением покрытий, то, вероятно, уже знаете, что лампы с ртутной нитью являются идеальным инструментом для этой цели. Они выполняют свою функцию очень быстро: они воздействуют на фотоинициаторы, содержащиеся в красках и покрытиях, превращая жидкие смолы в твердые пленки за считанные секунды.

Как это работает
Суть заключается в следующем: электрический разряд происходит в паре ртути при низком давлении, что приводит к выделению широкого спектра УФ-излучения — в основном в диапазонах UVC и UVB.

Отражатель для лампы УФ вызревания

Thu, 25 Jun 2026 09:50:14 +0800

На металлических и стеклянных поверхностях процесс адгезии не происходит случайно. Он возникает тогда, когда лампа излучает достаточную энергию. Необходимо высокое значение пиковой интенсивности излучения в нужной длине волны, чтобы полностью активировать фотоинициаторы. Многие системы не справляются с этой задачей из-за неправильной конфигурации отражателя, а также из-за снижения мощности лампы со временем.

Что на самом деле имеет значение Мы формируем отражатель так, чтобы максимизировать спектральную интенсивность излучения от ламп с высоким давлением ртути. Это позволяет сосредоточить излучение на длинах волн 365 нм и 385 нм, где происходит наибольшее поглощение фотоинициаторами. Точная эллиптическая форма отражателя и высокорефлексивные дихроичные покрытия способствуют повышению пиковой интенсивности излучения и обеспечивают однородное проникновение излучения по всей поверхности подложки. В результате получается больше энергии на единицу площади, что позволяет полностью завершить процесс связывания молекул – даже на материалах с низкой поверхностной энергией.