<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Отражатель on UV Light Zone</title>
		<link>http://uv-light-zone.com/ru/tags/%D0%BE%D1%82%D1%80%D0%B0%D0%B6%D0%B0%D1%82%D0%B5%D0%BB%D1%8C/</link>
		<description>Recent content in Отражатель on UV Light Zone</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>ru</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Thu, 25 Jun 2026 09:50:14 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://uv-light-zone.com/ru/tags/%D0%BE%D1%82%D1%80%D0%B0%D0%B6%D0%B0%D1%82%D0%B5%D0%BB%D1%8C/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Отражатель для лампы УФ вызревания</title>
				<link>http://uv-light-zone.com/ru/posts/reflector-for-uv-curing-lamp/</link>
				<pubDate>Thu, 25 Jun 2026 09:50:14 +0800</pubDate>
				<guid>http://uv-light-zone.com/ru/posts/reflector-for-uv-curing-lamp/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://uv-light-zone.com/images/3a6879856d7542d16a55e9db1a844168.jpg&#34; alt=&#34;Отражатель для лампы УФ вызревания&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;На металлических и стеклянных поверхностях процесс адгезии не происходит случайно. Он возникает тогда, когда лампа излучает достаточную энергию. Необходимо высокое значение пиковой интенсивности излучения в нужной длине волны, чтобы полностью активировать фотоинициаторы. Многие системы не справляются с этой задачей из-за неправильной конфигурации отражателя, а также из-за снижения мощности лампы со временем.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;Что на самом деле имеет значение&lt;/strong&gt;&#xA;Мы формируем отражатель так, чтобы максимизировать спектральную интенсивность излучения от ламп с высоким давлением ртути. Это позволяет сосредоточить излучение на длинах волн 365 нм и 385 нм, где происходит наибольшее поглощение фотоинициаторами. Точная эллиптическая форма отражателя и высокорефлексивные дихроичные покрытия способствуют повышению пиковой интенсивности излучения и обеспечивают однородное проникновение излучения по всей поверхности подложки. В результате получается больше энергии на единицу площади, что позволяет полностью завершить процесс связывания молекул – даже на материалах с низкой поверхностной энергией.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
